EUV露光
| 日本語 | EUV露光 |
|---|---|
| 中国語（簡体字） | 极紫外光刻 |
| English | extreme ultraviolet lithography |
| 分野 | 半導体・電子部品 |
定義
波長 13.5nm の極端紫外線を用いる露光技術。
訳し分け・誤訳の注意
「极紫外光刻」、略称 EUV。
本ページは技術文書の翻訳実務にもとづく用語の対応関係を示すものです。 法令上の定義や適用範囲を示すものではありません。
| 日本語 | EUV露光 |
|---|---|
| 中国語（簡体字） | 极紫外光刻 |
| English | extreme ultraviolet lithography |
| 分野 | 半導体・電子部品 |
波長 13.5nm の極端紫外線を用いる露光技術。
「极紫外光刻」、略称 EUV。
本ページは技術文書の翻訳実務にもとづく用語の対応関係を示すものです。 法令上の定義や適用範囲を示すものではありません。