イオン注入

日本語イオン注入
中国語(簡体字)离子注入
Englishion implantation
分野半導体・電子部品

定義

不純物イオンを加速してウェハ表面に打ち込み、濃度と深さを制御してドーピングする方法。

訳し分け・誤訳の注意

「离子注入」で確立している。ドーズ量は「剂量」、加速エネルギーは「能量」。

実務での出現場面

不純物イオンを加速してウェハ表面に打ち込む方法です。ドーズ量と加速エネルギーが条件で、それぞれ定訳があります。装置の仕様書、工程条件表、不良解析報告に現れ、条件の数値は転記の対象です。注入後の分布は測定で確認され、測定方法も条件表に併記されます。装置の傾斜角も条件の一つです。

実際に起きる失敗

ドーズ量を「用量」と訳した工程条件表があり、医薬の用量と紛らわしくなりました。分野の定訳を用います。

対訳の実例

イオン注入のドーズ量を設定します。/ 设定离子注入的剂量。

本ページは技術文書の翻訳実務にもとづく用語の対応関係を示すものです。 法令上の定義や適用範囲を示すものではありません。

貴社専用の用語集を作りませんか。

既存文書から用語を抽出し、貴社標準の用語データベースを整備します。 作成した用語集は貴社に帰属し、社内のAI翻訳にも組み込めます。

相談する