161 TERMS

半導体・電子部品の中日対訳用語

半導体・電子部品分野で使用頻度の高い用語を161語収録しています。 各語に、実務で訳し崩れる箇所を記載しています。

日本語中国語English注意点
ウェハ晶圆wafer中国語は「晶圆」で定着している。
フォトレジスト光刻胶photoresist中国語は「光刻胶」。
リソグラフィ光刻lithography「光刻」が定訳。
エッチング刻蚀etching中国本土は「刻蚀」、台湾では「蝕刻」が一般的。
ドーピング掺杂doping「掺杂」が定訳。
イオン注入离子注入ion implantation「离子注入」で確立している。
アニール退火annealing「退火」。
CVD(化学気相成長)化学气相沉积chemical vapor deposition「化学气相沉积」、略称は中国語でも CVD。
PVD(物理気相成長)物理气相沉积physical vapor deposition「物理气相沉积」。
スパッタリング溅射sputtering「溅射」。
CMP(化学機械研磨)化学机械抛光chemical mechanical polishing「化学机械抛光」。
フォトマスク光掩模photomask「光掩模」。
ダイ(チップ)芯片/裸片die文脈で訳し分ける必要がある語。
ダイシング划片dicing「划片」。
パッケージング(半導体)封装packaging「封装」。
ワイヤボンディング引线键合wire bonding「引线键合」。
歩留まり良率yield「良率」が定訳。
欠陥密度缺陷密度defect density「缺陷密度」。
プロセスノード制程节点process node本土では「工艺节点」、台湾では「制程节点」が一般的。
ファウンドリ晶圆代工foundry「晶圆代工」。
ファブレス无晶圆厂fabless「无晶圆厂」または「无厂」。
クリーンルーム洁净室cleanroom「洁净室」。
ESD(静電気放電)静电放电electrostatic discharge「静电放电」。
バーンイン老化试验burn-in「老化试验」または「烧机」。
データシート数据手册datasheet「数据手册」。
絶対最大定格绝对最大额定值absolute maximum ratingデータシート翻訳で最も事故が起きる語。
推奨動作条件推荐工作条件recommended operating conditions絶対最大定格と対で扱う。
リーク電流漏电流leakage current「漏电流」。
しきい値電圧阈值电压threshold voltage「阈值电压」。
SoC(システムオンチップ)片上系统system on chip「片上系统」。
IPコアIP核IP core「IP核」。
ネットリスト网表netlist「网表」。
テープアウト流片tape-out「流片」。
PDK(プロセス設計キット)工艺设计套件process design kit「工艺设计套件」。
DRC(デザインルールチェック)设计规则检查design rule check「设计规则检查」。
FinFET鳍式场效应晶体管FinFET正式には「鳍式场效应晶体管」だが、実務文書では FinFET のまま用いることが多い。
基板衬底/基板substrate訳し分けが必要な語。
プリント基板印制电路板printed circuit board「印制电路板」、略称 PCB。
SMT(表面実装技術)表面贴装技术surface mount technology「表面贴装技术」。
リフロー回流焊reflow soldering「回流焊」。
はんだペースト锡膏solder paste「锡膏」または「焊膏」。
エピタキシャル成長外延生长epitaxy「外延生长」、略して「外延」。
誘電体介质/电介质dielectric「介质」。
ゲート酸化膜栅氧化层gate oxide「栅氧化层」。
限界寸法(CD)关键尺寸critical dimension「关键尺寸」。
重ね合わせ精度套刻精度overlay「套刻精度」または「套准精度」。
ウェハテスト(プローブ検査)晶圆测试/中测wafer probe「晶圆测试」。
KGD(良品ダイ)已知良品裸片known good die「已知良品裸片」、略称 KGD。
TSV(シリコン貫通電極)硅通孔through-silicon via「硅通孔」、略称 TSV。
アンダーフィル底部填充胶underfill「底部填充胶」。
はんだボール锡球/焊球solder ball「焊球」。
ビニング(等級選別)分档/分选binning「分档」。
故障解析失效分析failure analysis「失效分析」、略称 FA。
レチクル掩模版reticle「掩模版」。
ステッパ/スキャナ步进式光刻机/扫描式光刻机stepper / scanner「步进式光刻机」「扫描式光刻机」。
計測(メトロロジ)量测/计量metrology半導体の工程内計測は「量测」、計量標準に関わる計量学は「计量」。
検査(欠陥検査)检测/缺陷检查inspection「检测」。
スラリー抛光液slurry「抛光液」。
チャック(保持機構)卡盘chuck「卡盘」。
ロードロック装载室/过渡室load lock「装载室」。
パーティクル(微粒子)颗粒particle「颗粒」。
汚染(コンタミネーション)污染contamination「污染」。
アウトガス放气/出气outgassing「放气」。
熱履歴(サーマルバジェット)热预算thermal budget「热预算」。
シート抵抗方块电阻/薄层电阻sheet resistance「方块电阻」。
パッシベーション钝化passivation「钝化」。
リードフレーム引线框架lead frame「引线框架」。
モールド(封止)塑封molding「塑封」。
BGA球栅阵列封装ball grid array「球栅阵列封装」、略称 BGA。
QFP四方扁平封装quad flat package「四方扁平封装」、略称 QFP。
ディレーティング降额derating「降额」。
MTBF(平均故障間隔)平均故障间隔时间mean time between failures「平均故障间隔时间」。
シリコンインゴット硅锭silicon ingot「硅锭」。
結晶方位晶向crystal orientation「晶向」。
結晶粒界晶界grain boundary「晶界」。
膜厚膜厚/厚度film thickness「膜厚」。
面内均一性均匀性uniformity「均匀性」。
選択比选择比selectivity「选择比」。
アスペクト比深宽比aspect ratio「深宽比」。
プラズマ等离子体plasma「等离子体」。
真空ポンプ真空泵vacuum pump「真空泵」。
マスフローコントローラ质量流量控制器mass flow controller「质量流量控制器」、略称 MFC。
SEM(走査型電子顕微鏡)扫描电子显微镜scanning electron microscope「扫描电子显微镜」、略称 SEM。
AFM(原子間力顕微鏡)原子力显微镜atomic force microscope「原子力显微镜」。
エリプソメトリ椭偏仪/椭圆偏振测量ellipsometry装置は「椭偏仪」、測定法は「椭圆偏振测量」。
信頼性試験可靠性试验reliability test「可靠性试验」。
温度サイクル試験温度循环试验temperature cycling「温度循环试验」。
吸湿性ランク(MSL)湿敏等级moisture sensitivity level「湿敏等级」、略称 MSL。
テーピング(エンボスキャリア)编带包装tape and reel「编带包装」。
SDS(安全データシート)安全数据表safety data sheet「安全数据表」(SDS)。
RTL(レジスタ転送レベル)寄存器传输级register transfer level「寄存器传输级」、略称 RTL。
論理合成逻辑综合logic synthesis「逻辑综合」。
配置配線布局布线place and route「布局布线」。
タイミングクロージャ时序收敛timing closure「时序收敛」。
セットアップ時間・ホールド時間建立时间・保持时间setup / hold time「建立时间」「保持时间」。
クロックスキュー时钟偏斜clock skew「时钟偏斜」。
DFT(テスト容易化設計)可测试性设计design for test「可测试性设计」、略称 DFT。
スキャンチェーン扫描链scan chain「扫描链」。
テストカバレッジ测试覆盖率test coverage「测试覆盖率」。
ATPG(テストパターン自動生成)自动测试向量生成automatic test pattern generation「自动测试向量生成」、略称 ATPG。
ATE(自動試験装置)自动测试设备automatic test equipment「自动测试设备」、略称 ATE。
プローブカード探针卡probe card「探针卡」。
エレクトロマイグレーション电迁移electromigration「电迁移」。
ラッチアップ闩锁latch-up「闩锁」。
ソフトエラー软错误soft error「软错误」。
ウェハレベルパッケージ晶圆级封装wafer level packaging「晶圆级封装」、略称 WLP。
インターポーザ中介层interposer「中介层」。
チップレット芯粒chiplet「芯粒」。
銅ピラー铜柱copper pillar「铜柱」。
High-k 材料高介电常数材料high-k dielectric「高介电常数材料」。
EUV露光极紫外光刻extreme ultraviolet lithography「极紫外光刻」、略称 EUV。
マルチパターニング多重曝光/多重图形化multi-patterning「多重图形化」。
OPC(光近接効果補正)光学邻近效应修正optical proximity correction「光学邻近效应修正」、略称 OPC。
ALD(原子層堆積)原子层沉积atomic layer deposition「原子层沉积」、略称 ALD。
段差被覆性台阶覆盖率step coverage「台阶覆盖率」。
ウェハ接合晶圆键合wafer bonding「晶圆键合」。
MEMS微机电系统micro electro mechanical systems「微机电系统」、略称 MEMS。
パワー半導体功率半导体power semiconductor「功率半导体」。
SiC/GaN(化合物半導体)碳化硅/氮化镓SiC / GaN「碳化硅」(SiC)、「氮化镓」(GaN)。
接合温度结温junction temperature「结温」。
熱抵抗热阻thermal resistance「热阻」。
ヒートシンク(放熱器)散热器heat sink「散热器」。
コンデンサ电容器capacitor「电容器」、略して「电容」。
インダクタ(コイル)电感器inductor「电感器」、略して「电感」。
抵抗器电阻器resistor「电阻器」、略して「电阻」。
ダイオード二极管diode「二极管」。
トランジスタ晶体管transistor「晶体管」。
コネクタ连接器connector「连接器」。
水晶振動子・発振器晶振/石英晶体crystal oscillator振動子(晶体)と発振器(振荡器)は別部品。
レギュレータ(安定化電源IC)稳压器voltage regulator「稳压器」。
リプル纹波ripple「纹波」。
ノイズマージン噪声容限noise margin「噪声容限」。
インピーダンス阻抗impedance「阻抗」。
帯域幅带宽bandwidth「带宽」。
デューティ比占空比duty cycle「占空比」。
立ち上がり時間上升时间rise time「上升时间」。
ファームウェア固件firmware「固件」。
前工程工場(ファブ)晶圆厂fab「晶圆厂」。
後工程后道工序/封测back-end process「后道工序」。
前工程前道工序front-end process「前道工序」。
ウェハマップ晶圆图wafer map「晶圆图」。
スクライブライン(切りしろ)划片道scribe line「划片道」。
TEG(評価用素子)测试图形/工艺监控图形test element group「测试图形」。
レシピ(工程条件)工艺配方recipe「工艺配方」。
工程管理(SPC)统计过程控制statistical process control「统计过程控制」。
工程異常(エクスカーション)工艺异常excursion「工艺异常」。
ロット(ウェハロット)批次lot「批次」。
カセット/FOUP晶圆盒/前开式晶圆传送盒cassette / FOUP「晶圆盒」。
搬送システム(AMHS)自动物料搬运系统automated material handling system「自动物料搬运系统」、略称 AMHS。
超純水超纯水ultrapure water「超纯水」。
特殊材料ガス特种气体specialty gas「特种气体」。
純度(グレード)纯度purity「纯度」。
洗浄装置(ウェットベンチ)湿法清洗设备wet bench「湿法清洗设备」。
RCA洗浄RCA清洗RCA clean固有名詞のため RCA はそのまま。
レジスト剥離(アッシング)去胶/灰化resist strip / ashing「去胶」。
ウェハ薄化(バックグラインド)晶圆减薄wafer thinning「晶圆减薄」。
ダイボンディング(ダイアタッチ)芯片贴装/固晶die attach「芯片贴装」。
フリップチップ倒装芯片flip chip「倒装芯片」。
再配線層(RDL)再布线层redistribution layer「再布线层」、略称 RDL。
バンプ凸块bump「凸块」。
気密封止气密封装hermetic sealing「气密封装」。