PVD（物理気相成長）
| 日本語 | PVD（物理気相成長） |
|---|---|
| 中国語（簡体字） | 物理气相沉积 |
| English | physical vapor deposition |
| 分野 | 半導体・電子部品 |
定義
スパッタリングや蒸着など、物理的な現象により薄膜を形成する成膜方法。
訳し分け・誤訳の注意
「物理气相沉积」。スパッタは「溅射」、蒸着は「蒸镀」。
本ページは技術文書の翻訳実務にもとづく用語の対応関係を示すものです。 法令上の定義や適用範囲を示すものではありません。
| 日本語 | PVD（物理気相成長） |
|---|---|
| 中国語（簡体字） | 物理气相沉积 |
| English | physical vapor deposition |
| 分野 | 半導体・電子部品 |
スパッタリングや蒸着など、物理的な現象により薄膜を形成する成膜方法。
「物理气相沉积」。スパッタは「溅射」、蒸着は「蒸镀」。
本ページは技術文書の翻訳実務にもとづく用語の対応関係を示すものです。 法令上の定義や適用範囲を示すものではありません。