フォトマスク

定義

回路パターンを描画したガラス基板。露光時にウェハへパターンを転写する原版。

訳し分け・誤訳の注意

「光掩模」。「光罩」は台湾で一般的な表記で、本土向け文書では「光掩模」を用いる。レチクルは「掩模版」。

実務での出現場面

露光工程の資材管理、マスク発注の仕様書、設計データの受け渡しに関する記述に現れます。本土と台湾で慣用語が異なる代表的な語です。設計データの受け渡しでは形式（GDSII 等）が指定され、形式名は訳さず原表記のまま用います。

実際に起きる失敗

台湾向けの資料をそのまま本土向けに転用し「光罩」が残った例があります。字体変換だけでは地域差は解消されず、語彙レベルの確認が要ります。

対訳の実例

フォトマスクの検査を実施します。／ 对光掩模进行检查。

本ページは技術文書の翻訳実務にもとづく用語の対応関係を示すものです。 法令上の定義や適用範囲を示すものではありません。